catalytic chemical vapor deposition
基本解释
- [机械工程]催化化学气相沉积
英汉例句
- Polysilicon thin films are deposited by catalytic chemical vapor deposition method. The substrate temperature is 300 ℃ and catalytic hot wire is tungsten filament.
以金属钨为催化热丝，采用热丝催化化学气相沉积，在300℃的玻璃衬底上沉积多晶硅薄膜。
双语例句
词组短语
- catalytic chemical vapor deposition method 催化化学蒸汽沉积法
- Floating Catalytic Chemical Vapor Deposition 浮游催化化学气相沉积
- catalytic chemical vapor deposition technique 催化化学气相沉积法
- catalytic chemical vapor deposition cat -cvd 催化化学气相沉积
- Chemical Vapor catalytic Deposition 化学气相催化裂解法
短语
专业释义
- 催化化学气相沉积